Freedom Ceos
-
Patentovaná technológia Freedom pre bezkonkurenčnú tesnosť.
-
Nízkoprofilový dvojzorníkový dizajn s minimálnym vnútorným objemom.
-
3D anatomický popruh pre bezpečné uchytenie na hlave.
-
Quick-Adjust pracky s 180° rotáciou priamo na lícnici.
-
Možnosť osadenia negatívnych aj pozitívnych dioptrických skiel.
-
Zaoblené okraje lícnice eliminujúce otlaky pri dlhých ponoroch.
TUSA Freedom Ceos (M-212) – Profesionálna nízkoprofilová maska
TUSA Freedom Ceos (M-212) predstavuje špičku v oblasti hydrodynamického dizajnu a komfortu. Maska využíva patentovanú technológiu Freedom, ktorá kombinuje rôzne hrúbky silikónu a textúrované povrchy na strategických miestach lícnice. Tento prístup zabezpečuje vynikajúcu tesnosť aj pri pohyboch tvárových svalov, pričom minimalizuje tlakové body. Nízkoprofilová konštrukcia s dvoma zorníkmi znižuje vnútorný objem, čo uľahčuje vyrovnávanie tlaku a vylievanie vody z masky. Integrovaný systém praciek Quick-Adjust je upevnený priamo na silikónovej lícnici, čo znižuje hmotnosť a umožňuje maske lepšie sa prispôsobiť anatómii hlavy potápača.

Galéria technických detailov
Kľúčové výhody a ergonómia
🛡️Technológia Freedom
Dimenzovaná lícnica s premenlivou hrúbkou silikónu a stabilitnými rebrami pre maximálnu integritu tesnenia v hĺbke.
📐Nízky vnútorný objem
Konštrukcia znižuje vztlak masky a zjednodušuje proces vylievania vody (clearing) pri zachovaní širokého zorného poľa.
⚙️Quick-Adjust Buckle System
Pracky upevnené priamo na lícnici umožňujú 180-stupňovú rotáciu a jemné nastavenie pnutia bez deformácie rámu.
Technická špecifikácia
FAQ – Servis a podpora
Ako správne udržiavať silikónovú lícnicu po ponoroch v slanej vode?
Je táto maska vhodná pre potápanie so zmesami Nitrox alebo Trimix?
Aké sú servisné intervaly pre pracky a popruh?
Dajú sa do modelu Freedom Ceos osadiť dioptrické sklá?
Zabraňuje technológia Freedom zahmlievaniu?
Je maska certifikovaná podľa európskych noriem?
| Kategória: | Maska a šnorchel |
|---|---|
| Záruka: | 2 roky |
Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.